제품소개
· PR200/300 시리즈는 등방성 배럴 타입으로 공간 절약형인 컴팩트한 디자인
· 뛰어난 조작성과 안전성으로 다양한 적용분야에 적합한 RF 값 조정
· 적용 분야
– 고분자 재료 표면의 접착 기능 향상
– 산화 반응은 표면에 작용기(-OH, >C=O,-COOH)를 생성합니다(미량의 물과 이산화탄소가 영향을 미침).
– 질소 플라즈마에서 질소 원자가 표면에 결합되어 작용기(-NH2)를 생성합니다.
– 저항 필링(Resist peeling)
– 재료의 표면 개선(금속, 폴리머, 필름, 세라믹 등)
– 석면 전처리(ashing of membrane filter)
– 저온회화(고분자재료, 석탄, 식품 등)
– PDMS 칩 본딩
– 반도체 생산과 분석 업무
제품특징
PR200/300/301
· Gas Plasma Reactor PR200
PR200/300/301
· Gas Plasma Reactor PR300
PR200/300/301
· Gas Plasma Reactor PR301
PR200/300/301
· Gas Plasma Reactor PR200 챔버
PR200/300/301
· Gas Plasma Reactor PR300/301 챔버
PR200/300/301
· Gas Plasma Reactor PR200 조작패널
PR200/300/301
· Gas Plasma Reactor PR300/301 조작패널
PR200/300/301
· Gas Plasma Reactor 내부
제품스펙
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